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詳細介紹
1. 產品概述
RIE-200C是在擁有豐富交貨業績的CCP RIE系統 "RIE-10NR "的基礎上開發的量產型盒式裝載系統。該系統可對Si、Poly-Si、SiO?、SiN等各種硅薄膜進行高精度蝕刻和灰化。采用雙盒雙臂機械手，PLC控制全自動操作，高性能存儲工藝參數，實現了高產量。
2. 設備用途/原理
Si、Poly-Si、SiO?、SiN等各種硅薄膜的高精度蝕刻。光阻劑的灰化、剝離、除塵，清除有機污染物。
3. 設備特點
大氣高速傳輸系統，該系統配備了一個大氣盒室和一個大氣傳輸機器人，而不是通常的裝載鎖定室。它可以處理大?8 "晶圓的自動加工，并且可以安裝在兩個盒式箱中。全自動操作，通過觸摸屏可實現全自動操作，通過PLC控制可實現過程管理和數據記錄。
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