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詳細介紹
1.產品概述：
本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩定、模塊化結構，采用行業的軟件控制系統。
2.設備用途：
用于納米單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備?？蓮V泛應用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。例如可用于制備各種功能性薄膜，如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜；適用于微電子域；在光學域，可用于制備增透膜、低輻射玻璃和透明導電玻璃等；在機械加工行業中，可沉積表面功能膜、超硬膜、自潤滑薄膜等，以提高表面硬度、復合韌性、耐磨損性和抗高溫化學穩定性能；還可應用于高溫超導薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜等的研究。
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