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詳細介紹
1.產品概述：
高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統可以在粉末顆粒狀樣品表面鍍制金屬膜、磁性膜、絕緣膜等，采用行業的軟件控制系統。
2.設備用途：
可廣泛應用于大院校、科研院所的粉末樣品表面鍍制薄膜材料的科研項目。
3.真空室結構:
圓筒形側開門，通常采用不銹鋼材質制造，具備良好的密封性能
真空室尺寸:Ф450x550mm
限真空度:≤8.0E-5Pa
沉積源:永磁靶2套，φ3英寸
樣品尺寸，溫度:小型粉末顆粒狀樣品
占地面積（長x寬x高）:約1米x1.8米x2米
電控描述:全自動設備電控系統和控制系統：采用計算機控制，具有液晶顯示屏、鼠標鍵盤操作界面，支持自動控制和手動控制兩種方式，操作簡便，并可實現真空系統及工藝過程的全自動化操作。
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