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詳細介紹
1.產品概述：
本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩定、模塊化結構，采用行業的軟件控制系統。
2.產品優勢：
用于納米單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
該系統可用于納米單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。廣泛應用于大院校、科研院所的薄膜材料科研工作。
3.產品工藝：
真空室結構:梨形上升蓋
真空室尺寸:φ550×350mm
限真空度:≤6.6E-6Pa（經烘烤除氣后）
沉積源:永磁靶5套，φ2英寸配有多個靶位，例如 5 個 2 英寸磁控濺射靶接
樣品尺寸，溫度:φ2英寸,6片; φ4英寸,1片; 高800℃
占地面積（長x寬x高）:約3米×1.1米×2米
電控描述:全自動
工藝:片內膜厚均勻性：≤±3%
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