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            全自動SCRUBBER清洗機

            簡要描述:清洗機可以用于對晶圓表面,背面及晶圓邊緣的清洗,通過創新研發的二流體噴嘴技術可將附著在晶圓表面的細微顆粒污染物去除,實現高效去除。通過大量仿真與工藝試驗相結合,優化出*的清洗工藝參數,確保不損傷晶圓表面的圖形;對于微米級別大顆粒,采用特殊材料的毛刷或高壓噴淋對晶圓進行擦洗去除。配合晶圓翻轉裝置和夾持式承片臺,可在同一臺設備中實現對晶圓的正反兩面進行清洗。

            • 產品型號:KS-CF300/200-8SR
            • 廠商性質:經銷商
            • 更新時間:2024-09-06
            • 訪  問  量: 483

            詳細介紹

            1. 產品概述

            該清洗機設計得精密而高效,能夠全面滿足對晶圓表面、背面及邊緣的清洗需求。借助于創新研發的二流體噴嘴技術,該設備能效率去除附著在晶圓表面的微小顆粒污染物。這一技術的突破使得清洗過程不僅迅速,確保晶圓在進入下一工序之前達到預期的潔凈度。

            為了實現*清洗效果,工程師們通過大量仿真試驗與實際工藝實驗相結合,優化了清洗工藝的各項參數。這種科學的調試過程能夠精確控制清洗強度和時間,有效避免對晶圓表面圖形造成潛在損傷,確保精密制造的需求得以滿足。

            針對微米級別的大顆粒污染物,清洗機配置了采用特殊材料制成的毛刷和高壓噴淋裝置,通過物理刷洗與高壓水流相結合的方式,有效去除附著在晶圓表面的頑固污垢。這種多方位的清洗手段,使得清洗過程變得更為高效和全面。

            2. 產品優勢:

            機臺可采用防靜電管路,防止水中靜電荷到達晶圓表面,對圖形造成破壞
            翻轉單元接觸點少,減小了與晶圓的接觸面積
            所有表都為數字顯示,數據上傳工控機方便追溯
            機臺優化傳輸路徑,產能大幅提升
            軟件客制化,界面友好,可按照客戶要求更改
            更高效的FFU
            售后服務:響應快,當地駐廠服務(7X24小時)
            支持工廠自動化

            3. 應用域:

            晶片爐管后清洗
            化學氣相沉積(CVD)后的清洗
            物理氣相沉積(PVD)后的清洗
            化學機械拋光(CMP)后的清洗,后段干法刻蝕后的清洗

            特殊工藝要求晶圓背部及晶圓邊緣的清洗




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