高真空蒸發鍍膜設備

1.設備概述

EC400高真空蒸發鍍膜設備是一臺高精度的蒸發鍍膜設備，主要用于在物體表面形成一層均勻的薄膜，以改變物體的性質和外觀。該設備利用高真空環境下的物理過程，將金屬材料蒸發成氣體，并在物體表面沉積形成薄膜。

2.主要組成部分

真空室：用于提供高真空環境，確保蒸發源和物體表面之間沒有氣體分子的干擾。

蒸發源：內置金屬材料（如銅、鋁、銀、金等），通過加熱使其蒸發成氣體。

膜厚監測儀：用于實時監測薄膜的厚度，確保薄膜質量符合要求。

樣品臺：用于放置待處理的物體，確保其在鍍膜過程中的穩定性和位置準確性。

真空獲得系統：包括真空泵等組件，用于將真空室抽成高真空狀態。

真空測量系統：用于測量真空室內的氣體壓力等參數，確保設備的安全運行。

氣路系統：用于向真空室內通入工藝氣體，如氮氣等，以調節鍍膜環境。

PLC+觸摸屏自動控制系統：實現設備的自動化控制和操作，提高工作效率和鍍膜質量。

3.技術特點

高真空環境：確保蒸發源和物體表面之間沒有氣體分子的干擾，提高鍍膜質量。

高精度控制：通過PLC+觸摸屏自動控制系統，實現蒸發源加熱溫度、沉積時間等參數的精確控制。

多功能性：可制備多種類型的薄膜，如金屬薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜等。

結構緊湊：設備主機與控制一體化設計，操控方便；結構緊湊，占地面積小。

4.應用域

EC400高真空蒸發鍍膜設備在多個域具有廣泛的應用，包括但不限于：

納米薄膜制備：用于開發納米單層、多層及復合膜層等。

材料科學：制備金屬膜、合金膜、半導體膜、陶瓷膜及介質膜等，如銀、鋁、銅、C60、BCP等材料的薄膜。

高校與科研院所：用于教學、科研實驗及新產品開發等。

工業生產：在鈣鈦礦太陽能電池、OLED、OPV太陽能電池等行業中，用于制備高質量的薄膜材料。