原子層沉積ALD

Phoenix – 批量生產原子層沉積

1. 生產能力

Phoenix®系統經過精心設計，可在從中試生產到工業制造的任何制造環境中實現高吞吐量和長的正常運行時間。技術人員和研究人員依靠 Phoenix® 在平面和 3D 基板上實現可重復、高精度的薄膜沉積。Phoenix®支持多達6條獨立的驅體生產線，可根據您的薄膜需求提供固體、液體或氣體工藝化學成分。緊湊的占地面積和創新的設計使Phoenix®成為具有批量生產ALD要求的人們的實用選擇。

2. 主要功能包括

對工藝參數（包括溫度、流量和壓力）進行精確的軟件控制，即使在敏感的基材上也能實現無缺陷的涂層

獲得利的 ALD Shield™ 蒸汽捕集器可防止沉積物積聚，并大限度地減少多余的工藝氣體排放到環境中

大型工藝室可容納 GEN 2.5 襯底、多個晶圓盒和更大的 3D 物體

擁有成本低，啟動和運營成本低

占地面積小，可節省寶貴的潔凈室空間

標準配方和 ALD 材料

來自技術團隊和博士科學家的全球全面支持和服務

符合 CE、FCC 和 CSA 標準，具有許多內置安全功能