激光直寫光刻機是一種先進的光刻技術，用于微電子制造和納米加工領域。它利用高能激光束直接將圖案投射到光敏材料上，實現高精度、高分辨率的圖案轉移。原理基于激光器發射出的高能激光束。激光束經過光學系統聚焦后，通過光掩膜或計算機控制的光束形狀器件進行調節，然后準確地照射到待加工的光敏材料上。激光束的高能量密度使得光敏材料在受光區域發生化學或物理變化，形成所需的圖案。這個過程可以實現非常細致的圖案結構，具有高分辨率和高加工精度。激光直寫光刻機廣泛應用于微電子制造和納米加工領域。在集成電...