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            • Fiji等離子增強原子層沉積PEALD

              我們的 Fiji® 系列是一種模塊化、高真空熱原子層沉積系統,采用靈活的架構和多種前驅體和等離子體氣體配置,可適應各種沉積模式。Fiji G2 是下一代 ALD 系統,能夠執行熱成像和等離子體增強沉積。

              更新時間:2024-09-04
              型號:Fiji
              廠商性質:經銷商
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            • NANO 36™熱蒸發薄膜沉積系統

              Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 熱蒸發薄膜沉積系統是我們優化的入門級沉積系統。我們的腔室設計特別適合手套箱集成。NANO 36 具有更高的功能和更小的占地面積,提供了實惠的價格點,同時保持了您期望從 KJLC 獲得的質量。

              更新時間:2024-08-14
              型號:NANO 36™
              廠商性質:經銷商
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            • Savannah原子層沉積ALD

              用于高級研究的先進能力 Veeco 是原子層沉積 (ALD) 系統供應商,為研究和工業提供全面的服務和多功能的交鑰匙系統,這些系統易于訪問、經濟實惠且精確到原子尺度。薄膜沉積是我們的專長。我們的 Savannah® 系列薄膜沉積工具就是這些能力的例證。

              更新時間:2024-09-04
              型號:Savannah
              廠商性質:經銷商
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            • Phoenix原子層沉積ALD

              Phoenix®系統經過精心設計,可在從中試生產到工業級制造的任何制造環境中實現高吞吐量和最長的正常運行時間。技術人員和研究人員依靠 Phoenix® 在平面和 3D 基板上實現可重復、高精度的薄膜沉積。Phoenix®支持多達6條獨立的前驅體生產線,可根據您的薄膜需求提供固體、液體或氣體工藝化學成分。緊湊的占地面積和創新的設計使Phoenix®成為具有批量生產ALD要求的人們的實用選擇。

              更新時間:2024-09-05
              型號:Phoenix
              廠商性質:經銷商
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            • GEN2000分子束外延MBE

              GEN2000® MBE 系統提供吞吐量、更長的活動周期、更小的占地面積和集群工具晶圓處理。它是 HBT 和 pHEMT 等無線通信設備大批量生產以及需要以低擁有成本生產 6 英寸的新興應用的理想選擇。

              更新時間:2024-09-05
              型號:GEN2000
              廠商性質:經銷商
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            • GEN200分子束外延MBE

              Veeco 的 GEN200® MBE 系統是當今市場上具成本效益和高容量的多 4 英寸生產 MBE 系統。該系統在用于泵浦激光器、VCSEL 和 HBT 等設備的生長中提供吞吐量、長時間的加工周期和出色的晶圓質量。

              更新時間:2024-09-05
              型號:GEN200
              廠商性質:經銷商
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