高真空電子束及熱阻蒸發薄膜沉積系統

1. 產品概述：

主要由蒸發真空室、e 型電子槍、熱阻蒸發組件、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、真空測量、安裝機臺及電控系統等部分組成，具備自動控制軟件系統。

2. 設備用途/原理：

沈陽科儀 DZS500 系統用途廣泛。電子束蒸發可以蒸發高熔點材料，比一般電阻加熱蒸發熱效率高、束流密度大、蒸發速度快，制成的薄膜純度高、質量好，厚度可以較準確地控制，可以廣泛應用于制備高純薄膜和導電玻璃等各種光學材料薄膜。在科研領域，它常用于材料研究和新型器件的開發；在工業生產中，可用于大規模制造高質量的薄膜產品。例如，在制造液晶顯示器的導電薄膜時，能夠保證薄膜的導電性和均勻性，提高產品的性能和質量。

3. 特色參數：

o 真空室結構：采用 U 形前開門。

o 真空室尺寸：500x500x600mm。

o 極限真空度：≤6.67e-5Pa。

o 沉積源：4 個 11cc 坩堝。

o 樣品尺寸與溫度：可放置 φ4 英寸的 1 片樣品，最高溫度可達 800℃。

o 占地面積：約 2.7 米 x1.7 米 x2.1 米。

o 電控描述：全自動。

o 工藝：片內膜厚均勻性≤±3%。

o 特色參數：樣品可自轉，轉速可調。

4. 設備特點

沈陽科儀 DZS500 系統的真空室具有一些顯著特點。其極限真空度表現出色，通常能夠達到≤6.67×10?? Pa（經烘烤除氣后）。停泵關機 12 小時后，蒸發室真空度≤5Pa，這表明其真空保持能力較強。真空室的結構通常為 U 形前開門，尺寸一般為 500×500×600mm。這種設計不僅方便操作，還有利于維持真空環境的穩定性。在實際應用中，良好的真空室特點能夠為薄膜沉積提供高質量的真空條件，減少雜質和氣體對薄膜質量的影響。比如在制備高精度光學薄膜時，穩定的真空環境能夠確保薄膜的均勻性和純度。