高真空電子束蒸發薄膜沉積系統

1.產品概述：

高真空電子束蒸發薄膜沉積系統主要由蒸發室、主抽過渡管路、旋轉基片架、光加熱系統、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監控儀、工作氣路、抽氣系統、控制系統、安裝機臺等部分組成，體現立方整體外觀，適用于超凈間間壁隔離安裝，操作面板一端處在相對要求較高超凈環境，其余部分（含低溫泵抽系統）處在相對要求較低超凈環境。

2.設備用途：

高真空電子束蒸發薄膜沉積系統配有一套電子槍及電源，可滿足在Al，Ni，Ag，Pt，Pd，Mo,Cr和Ti等多種金屬和介質膜基片上均勻沉積多層膜的需要。

該系統的主要功能是利用電子束蒸發技術在基片上沉積各種薄膜材料。

3.產品優勢：

限真空度高：能夠達到≤6.×10^-5 Pa，這有助于減少薄膜制備過程中的雜質和氣體干擾，提高薄膜質量。

電子槍功率可調范圍大：電子槍功率 0—10kW 可調，可以滿足不同材料蒸發和薄膜沉積的需求，適應多種工藝條件。

配備水冷式坩堝：4 穴坩堝，每個容量不少于一定數值（具體容量可能因型號而有所不同），可容納多種材料同時蒸發。

樣品臺性能優良：可容納較大尺寸的樣品，并且能夠加熱至較高溫度（具體溫度可能因型號而有所不同），轉速可在一定范圍內調節，滿足不同實驗需求。

具備精確的膜厚監測儀：彩色 LCD 顯示屏，提供英文或中文版本，設有“quick setup"（快速設定）菜單、多個區分上下文按鈕以及簡便的參數設定旋鈕，易于設定和操作，且測量速率和分辨率較高，存儲容量大，能夠使用單傳感器或多傳感器監控源材料，提供精確的源分布監控，有利于實現對薄膜沉積過程的精確控制和質量監測。

包含金屬蒸發源組件：可提供多套蒸發電源，大輸出功率滿足一定要求（如 1.8kW，電壓 6V，電流×A），有助于提高薄膜沉積的效率和穩定性。

擁有較高的分子泵抽速：≥×l/s，能夠快速有效地抽取真空室內的氣體，維持高真空環境。

其他方面：可能還具有良好的設備穩定性、可靠性，以及完善的售后及質保服務等。

4.產品參數：

真空室結構:U形開門

真空室尺寸:900×900×1100mm

限真空度:≤6.0E-5Pa

沉積源:6個40cc坩堝

樣品尺寸，溫度:φ4英寸，26片，高300℃

占地面積（長x寬x高）:約3.5米x3.9米x2.1米

電控描述:全自動

工藝:片內膜厚均勻性：≤±3%

特色參數 :樣品尺寸及數量可定制，工件架有拱形基片架和行星形基片架：可根據用戶基片尺寸設計工件架