通過采用結合空心陽極離子槍和磁控管離子槍的新型離子槍，可實現了超精細結構的薄膜。

AE物理氣相沉積平臺Nexdep PVD在經濟性和多功能性之間取得了平衡。它可以配備強大的工藝增強功能，而不會占用實驗室的所有空間或預算。您的研究目標、生產需求和/或應用最終目標將告知如何裝備您的 Nexdep PVD 平臺。

科瓦普物理氣相沉積平臺COVAP PVD 為許多過程應用提供了緊湊、經濟且仍然強大的解決方案。專為需要安全可靠的工具的實驗室而設計，該工具可在緊湊的占地面積內生產可重復的高質量薄膜。沉積源被隔離，以減少熱效應和交叉污染。配備了一整套可拆卸的腔室屏蔽層，以確保腔室易于清潔和維護。在腔室打開時，源、級功率和氣動壓力被切斷，確保了優良的安全性。它可以集成到手套箱中，也可以在獨立配置中選擇.

MS450高真空磁控濺射鍍膜設備詳細組成及功能如下： 真空室：提供高真空環境，確保鍍膜過程的純凈性。 濺射靶槍：用于安裝濺射靶材，通過高能粒子轟擊靶材表面，使靶材原子或分子濺射出來并沉積在樣品上形成薄膜。 濺射電源：為濺射靶槍提供所需的電能，控制濺射過程的穩定性和效率。 加熱樣品臺：用于加熱樣品，以改善薄膜的附著力和結晶質量。 流量控制系統：精確控制鍍膜過程中所需氣體的流量，確保鍍膜成分的準確性

Ganister™ A離子束沉積設備，是針對低溫、高致密、高均勻性薄膜沉積工藝所開發的專用產品，在硬盤磁頭、硬磁偏置層、布拉格反射鏡等器件的制備中有著重要的應用。該設備采用濺射成膜，靶材選擇范圍廣。而其采用的四槽旋轉靶材基座，更可處理多達四種靶材。選配的輔助離子源，可以實現原位預清洗、優化膜層致密性等功能。此外，Ganister™ A的輔助離子源也可進行離子束刻蝕，一個腔室內兼備兩種工藝，顯著提高

高真空電子束蒸發薄膜沉積系統主要由蒸發室、主抽過渡管路、旋轉基片架、光加熱系統、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監控儀、工作氣路、抽氣系統、控制系統、安裝機臺等部分組成，體現立方整體外觀，適用于超凈間間壁隔離安裝，操作面板一端處在相對要求較高超凈環境，其余部分（含低溫泵抽系統）處在相對要求較低超凈環境。 本系統配有一套電子槍及電源，可滿足在Al，Ni，Ag，Pt，Pd，Mo,Cr和Ti等多種金屬